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中国已经是全球稀有气体主要供应国

而半导体微影制程当中需要氖气的制程主要为DUV曝光，制程节点涵盖自8英寸晶圆180nm至12英寸晶圆1Xnm。晶圆代工方面，全球180~1Xnm产能占整体约75%，除 ...

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