你即將離開本站

並前往http://140.117.153.69/ctdr/files/573_1150.pdf

6 Photolithography

列出組成光阻(photoresist)的四個成分. •敘述正光阻(+PR)和負光阻(−PR)的差異. •敘述微影製程(photolithography)的順序. •列出四種對準(alignment)和曝光(exposure) ...

確定！ 回上一頁

查詢 「正負光阻差異」的人也找了：

  1. 正負光阻優缺點
    2.
  2. 正光阻負顯影
    3.
  3. 正顯影負顯影差異
    4.
  4. 光阻液
    5.
  5. pr光阻
    6.
  6. 負型光阻成分
    7.
  7. 微影製程五大步驟
    8.
  8. 負光阻優點
    9.