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朝陽科技大學資訊工程系碩士論文

晶片上的光阻，此步驟稱之為曝光(Exposure)；但由於光阻材料分為正光阻. 與負光阻，其正負性質不同，經顯影(Develop)後，光阻圖案會與原光罩圖.

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