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科技部補助產學合作研究計畫成果精簡報告

高精度無光罩曝光」技術與機台，用於製作大面積、小線寬、任意. 複雜圖型的光阻結構，可以取代傳統半導體製程製作之矽母模，用. 於翻製軟性光罩中的PDMS模仁。

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