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正光阻負光阻差異
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國立政治大學應用物理研究所碩士學位論文Bi0.5Sb1.5Te3 與 ...
晶作為基板(35 x 35 mm2),最後利用半導體黃光製程的方式完成442 對 ... 無法支撐如此厚的厚度所以我們還會使用到負光阻的製程。以正光阻來說,被照到.
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