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電子束微影(EBeam Lithography)代工-第二頁

光阻 選擇. Resist type. ⃞ 正光阻ARP6200, 厚度_______nm, 基本厚度200nm. 可調範圍150 ~ 400nm. ⃞ 負光阻, 厚度_______nm, 如需負光阻請先詢問.

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