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半導體用光阻劑之發展概況

負型光阻劑在經過曝光後，顯影時則是沒受到光照的部分溶解，顯影後留下光照部分所形成的圖案，負型光阻劑是最早被應用在光刻製程上的光阻劑，它擁有工藝 ...

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