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正光阻成分
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負光阻成分 - Ltpim
正光阻 經過光照後,其餘的如顏料,其成分為含光敏感組成的高分子。光阻劑必須要均勻的塗在整個晶片氧化膜的表面,使金屬在蒸鍍過程中不會連續性滿布在光阻劑上,以不對Cu膜 ...
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