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光蝕刻技術(photolithography)之光阻劑(photoresist) - 皮膚科王 ...

常用的負光阻成分為聚異戊二烯橡膠(polyisoprene rubber)，其解析度遜於正型光阻劑，但熱安定性及抗蝕刻性則優於正型光阻劑，常用溶劑為二甲苯(xylene)。

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