光阻劑製程. 光阻製程步驟:. 1. 清潔完成二氧化矽製程的晶片。 2. 晶片表面塗佈光阻劑。 3. 低溫軟烤( Soft Bake )。 4. 曝光( Expose )。 5. 晶片顯影( Develop )。
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