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曝光顯影製程
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積體電路製程的微縮探討作者
最後再以溶劑把上層的光阻沖洗掉後,便將上述SiO2線條圖案留白的區域製作出來,. 完成該層微影程序。重複類似光罩曝光、顯影、蝕刻步驟就可以一層一層的將電路結構做.
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「曝光顯影製程」
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