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曝光顯影製程
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光學微影的新限制
在積體電路(IC)生產的發展初期,光學微影一直是半導體圖案製程的主流技術。 ... 由於層疊錯誤會受到光罩或晶圓所影響,因此量測步驟針對晶圓上的曝光區域以及不同區域 ...
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