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工學院半導體材料與製程設備學程

圖4.28 為使用SiNx_10 薄膜光罩於晶圓上實際曝光且顯影之結果。 ....... 74 ... 導體製程中很常被採用，因此，無須特別開發新的製程及蝕刻技術，直接.

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