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曝光過度補救
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以卡曼濾波器及最小變異控制器實現微影製程控制Process ...
光阻局部有輕微的曝光過度或曝光不足的現象,其產生的原因是在曝光時,光波在. 不同厚度的光阻會有不同的干涉效應 ... (Rework)來補救,以避免整片或整批的晶圓報廢。
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