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積體電路製程的微縮探討作者

以22 nm(奈米)製程為例，要將電路微縮到22 nm的圖案，若曝光機的光學系統可縮小 ... 學材料可穿透EUV光源，故使用的光學成像系統也都改為反射式，也由於要有好的成像品.

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