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極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術 - 能源資訊平台

第一代量產型EUV 機台的曝光波長為13.5 nm，NA 在0.25～0.35 之間，採. 用6 個鏡面投影光學元件[9]。圖4 和圖5 為ASML 所製造的EUV 系統示意圖及.

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