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利用EUV曝光機開發出高感度光阻材料

欲有效率地製造10nm以下的半導體，必須先讓EUV實用化，而關鍵就在於光阻材料。現在的ArF雷射曝光機一小時能夠加工200片的晶圓，過去使用有機化合物光 ...

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