你即將離開本站

並前往https://ppfocus.com/0/sc8cf6894.html

一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造- 人人焦點

EUV 光刻機可望使工藝製程繼續延伸到7nm與5nm。 浸沒式光刻與二次圖形曝光示意圖. 半導體行業目前最大的瓶頸，在於摩爾定律的實現成本越來越 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「曝光機euv」的人也找了：

  1. 曝光機原理
    2.
  2. euv原理
    3.
  3. euv光刻機
    4.
  4. 曝光機asml
    5.
  5. euv光罩
    6.
  6. pcb曝光機
    7.
  7. euv波長
    8.
  8. 曝光機種類
    9.