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極紫外光刻的發展現狀 - 電子時報

又過了近1/4世紀，光源從KrF的248nm走過ArF的193nm，平台從步進機走到掃瞄機，加上浸潤式微影的技術和製程上的重複曝光等工程手段，波長193nm的光刻機 ...

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