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用於次25 奈米極紫外光曝光機之新穎反射型衰減式相位移光罩

相位移光罩(phase-shifting-mask) 是目前一種極為重要的解析度增益技術，它將被應用於未來. 的極紫外光(EUV) 微影術中，以製作25 nm 以下的圖案。

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