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193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片？ - 電子技術設計

光刻膠曝光後的溶解性依賴於曝光量，這大家都知道，但是這個依賴很不線性。 ... Immersion Lithography，不多說了，EUV之前妥妥的必備技術(然而 ...

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