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极紫外光刻 - 维基百科

EUV 光源波長比目前DUV（深紫外線微影）的光源波長短，約為15分之1，因此能使用於線距更小電路圖案的曝光上。然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm波長的極 ...

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