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一窺全世界技術最精密的機具

曝光機 最終需要11個鏡面反射EUV光，聚焦在晶片上，就好比有11個人打乒乓球，輪流傳球，最後打在一個目標點。由於目標是要蝕刻出以奈米為單位的元件，每個 ...

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