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曝光機 NA 值
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NIL 可以满足广泛的半导体应用,可与EUV一战 - 华盛通
由于台积电、三星等主要代工企业已达到5nm及以下的工艺,氟化氩曝光设备 ... 当NA值高时,分辨率提高,光线变得更清晰,可以实现更精细的半导体电路。
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