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曝光機 NA 值
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光刻 - 中文百科全書
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後 ... 折射率較大的光學鏡頭材料和浸沒液體材料;以及有效數值孔徑NA值的拓展等問題。
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