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曝光機 NA 值
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新一轮EUV光刻机争夺战开打|台积电|英特尔 - 网易
更高的NA值允许在机器内部产生更宽的EUV光束,然后再照射晶圆。 ... 符合预期的芯片良率,以减少曝光机光罩缺陷及制程堆栈误差,并降低整体成本,2nm ...
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