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半導體裝置之光刻機原理及發展 - 日間新聞

1、光刻機原理光刻的原理是在矽片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠， ... 根據ASML產品資料資訊，採用浸入技術之後，NA值由0.50–0.93發展 ...

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