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Imec将0.33NA EUV光刻的单次曝光图形能力推至极限

此外，优化的抗蚀剂材料有助于NXE:3400光刻机产出尽可能小的特征尺寸（即24nm线宽和28nm接触孔），因此具有高NA值的EUV光刻扫描机可进行早期的材料 ...

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