该值最大是1; 先进的曝光机的NA 在0.5 ~ 0.85之间。可见为了减小最小特征尺寸, 则必须减小曝光光源波长和提高NA值。ASML最新推出的EUV光刻胶, 可以把波长虽短到13.5 nm ...
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