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曝光機 NA 值
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NIL 可以滿足廣泛的半導體應用,可與EUV一戰
ASML 計劃在2023 年推出基於高數值孔徑的EUV 設備原型。下一代EUV設備的開發有望進一步鞏固其在微納製程半導體曝光設備市場的壟斷地位。 隨着半導體制造商 ...
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