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曝光機 NA 值
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EUV技術只是新寵舞台還是浸入式光刻的 - 壹讀
浸入式光刻是指在光刻機投影鏡頭與半導體矽片之間用一種液體充滿,從而獲得更好分辯率及增大鏡頭的數值孔徑,進而實現更小曝光尺寸的一種新型光刻技術(下 ...
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