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台積電：2024年將擁有ASML高數值孔徑EUV工具| 產經 - 中央社

路透社報導，米玉傑在矽谷的台積電技術論壇上說，台積電將在2024年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）光刻機，來因應客戶推動創新的需求。

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