DUV光刻机有一个很重要的技术指标叫NA值(投影物镜的光学数值孔径),这个值要1.35才能实现曝光5nm工艺。 · 光刻机、刻蚀机和镀膜机并称四大核心装备,开发难度仅次于光刻机 ...
確定! 回上一頁