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对NA-σ曝光设置和散射条OPC同时优化的方法和装置

公开了一种基于目标布局对光刻系统的数值孔径(“NA”)和西格马因子进行优化的 ... 作为其优先权，其申请日为2003年6月30日，名称为"利用器件布局对NA-西格马曝光设置值和 ...

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