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EUV光刻将走向何方？ - 硬见

技术节点的发展推动着半导体曝光技术解像度（Half Pitch）的发展，ArF 液浸曝光技术和EUV 曝光技术等的解像度（R）和曝光波长（λ）成正比，和光学的数值孔径（NA， ...

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