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用Abbe's+method+模擬光刻來尋找適當的參數以提升半導體良率

就是針對在不同的波長下,然後去調整數值孔徑值NA,觀察它平面上的強度分布和線寬,會產生什麼樣的變化,最後去比較和分析第五章是根據以上的結果,經過分析和整理得出的 ...

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