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數值孔徑半導體
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ASML分享High-NA EUV曝光機進展、目標2024-2025年進廠
為了順利用上極紫外光刻(EUV)技術來生產晶片,半導體行業耗費了十多年 ... 不過從ASML最近更新的2024-2025路線圖來看,抵達具有高數值孔徑的下一 ...
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