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埃米時代不遠了？ Imec擘劃先進製程藍圖 - 電子工程專輯

短期來看，Steegen認為業界將在7nm採用極紫外光(EUV)微影技術、FinFET則發生在5nm甚至3nm節點，而奈米線電晶體也將在此過程中出現。

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