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EUV微影前進7nm製程- 電子工程專輯

EUV微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm製程節點。不過，根據日前在美國加州舉辦的ISS 2018上所發佈的分析顯示，實現5nm晶片所需的光阻劑仍 ...

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