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產業脈動｜半導體製程重中之重- 微影技術的突破與創新

目前一般採用的曝光原理，是將懸浮在光阻溶液中的光敏物質，與雷射光束產生化學反應之後而固化塑形。若未來EUV光束的光點更加微小，表示光束擊中光敏物質 ...

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