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半導體製程的發展越來越迅猛

從這點看來，8 奈米相比現有的 10 奈米，很可能在電晶體密度、效能、功耗等方面終極最佳化，基本上可看做深紫外曝光以下的技術極限了。 △ DUV 和 EUV 光 ...

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