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半導體製程技術 - 聯合大學

足夠的離子轟擊可幫忙清除. ▫ 數量恰當的化學蝕刻亦可踢除. ▫ 氧電漿灰化製程(Oxygen plasma ashing): 去除有機殘餘物. ▫ 濕式化學清潔步驟：去除無機殘餘物 ...

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