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台積電曝光機
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專訪林本堅留心做正經事業
(ASML)也放棄原本157 奈米微影曝光機的研. 發,跟進193 奈米浸潤式微影機台的開發。這項. 技術也讓台積電成功引領新技術,取得業界的領. 先地位。
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