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林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來

過去半導體晶片製程中，主要採用乾式曝光，以空氣為鏡頭和晶圓之間的. 介質，把光罩上的圖形在晶圓上成像；而浸潤 ... 放棄原本的157奈米微影曝光機研發，與台積電共同.

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