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TWI630034B - 半導體基板的清潔方法與半導體裝置的製作方法

本發明揭露清潔基板(如用於製作IC之半導體基板)的方法，包括以酸與鹼中的一者及臭氧之第一混合物清潔半導體基板，接著以酸與鹼中的 ... 上述清潔混合物可更包含去離子水。

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