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半導體器件用光掩模 - 凸版印刷

二元掩膜（Binary Masks）是僅透過單純的遮光膜圖案形成的掩膜。作為僅具有單純地透過／遮掩光線功能的掩膜，主要用於形成粗細超過曝光波長的圖案。

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