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化學氣相沉積與介電質薄膜

描述CVD 製程順序. • 列舉兩種沉積區並描述它們和 ... 的氧化物製程被廣泛地使用在半導體工 ... 電漿增強型化學氣相沉積系統. 製程氣體. RF 功率產生器. 製程反應室.

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