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VCSEL 技術原理與應用 - 第 160 頁 - Google 圖書結果

一般在製作半導體雷射時都會注意降低這些表面缺陷形成的非輻射復合效應,所以蝕刻製程所保留可以導通電流提供增益的區域尺寸一般不會太小,除了要避免上述非輻射復合問題 ...

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