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半導體鍍膜製程
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PVD / CVD薄膜沈積(Thin Film Deposition)www.tool-tool.com
表一三種PVD法之比較物理氣相沈積(Physical Vapor Deposition,PVD)是今日在半導體製程中,被廣泛運用於金屬鍍膜的技術。以現今之金屬化製程而言: ...
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