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半導體鍍膜製程
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越薄越好,3D薄膜製程大挑戰:淺談原子層沈積技術
ALD技術具有極佳的薄膜成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性,此具有極高的應用價值,例如在元件越做越小的半導體產業中,ALD 已逐步取代傳統鍍膜製程。例如在鰭狀電 ...
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